金屬表面處理PVD鍍鈦種類(lèi)：氮化鈦(TiN)，鍍鉻(CrN)， ROSE，氮鋁鈦(TiAlN)，金屬表面鍍鈦廠(chǎng)家服務(wù)，高鋁鈦(AlTiN)， PLUS，鍍鈦廠(chǎng)家服務(wù)，氮碳化鈦(TiCN)，氮碳化鉻(CrCN)等各種超硬膜層，其涂層厚度可達到0.5～5um，故而您不用擔心會(huì )給尺寸帶來(lái)麻煩，并以工藝使產(chǎn)品具有良好的潤滑、散熱（干式），使工件壽命可增加10～50倍，可提高600％工作效力，從而降低生產(chǎn)成本。


PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；通常說(shuō)的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，處理鍍鈦廠(chǎng)家服務(wù)，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。


此外，多弧鍍涂層顏色較為穩定，尤其是在做 TiN 涂層時(shí)，每一批次均容易得到相同穩定的金黃色，令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是，在用傳統的 DC 電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm 時(shí)，金屬鍍鈦廠(chǎng)家服務(wù)，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開(kāi)始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。


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